ПАО Микрон | |
---|---|
| |
Тип | Публичное акционерное общество |
Основание | 1964 |
Прежние названия | НИИМЭ и Микрон |
Расположение |
|
Ключевые фигуры |
Красников Геннадий Яковлевич (председатель Совета директоров) Хасьянова Гульнара Шамильевна (генеральный директор) |
Отрасль | Электроника |
Продукция | Интегральные схемы |
Оборот | 6 686 млрд руб. (2018)[1] |
Чистая прибыль | 3 млн. руб (2018)[1] |
Число сотрудников | 1502 (2015) |
Материнская компания |
НПО «Научный центр» (до начала 1990-х), ОАО «Ситроникс» (1997—2013), ОАО «РТИ» (с 2013 года) |
Сайт | mikron.ru |
Микрон (ранее также НИИМЭ и Микрон) — российская компания, производителей интегральных схем, основана 9 марта 1964 года как НИИ молекулярной электроники (НИИМЭ), при котором 1 февраля 1967 года был создан завод «Микрон». В настоящее время основной акционер компании — холдинг ОАО «РТИ», принадлежащий в свою очередь АФК «Система».
Входит в группу компаний "Микрон". На сайте группы компаний говорится, что помимо ПАО "Микрон" в неё входят "ВЗПП-Микрон", АО "Светлана-Полупроводники", торговые представительства в Китае и на Тайване, сборочный завод в Шеньчжене.
До распада СССР завод «Микрон» (вместе с зеленоградским заводом «Ангстрем» и минским объединением «Интеграл») являлся основным производителем интегральных схем в СССР.
Продукция предприятия составляет около 70% от всего экспорта электроники из России[2].
В 1970-е годы «Микрон» впервые в стране разработал и изготовил цифровые и аналоговые интегральные схемы массового применения.
В 1970-1980-е годы создан способ изготовления структуры микросхем с боковой изоляцией диэлектриком (процесс «эпипланар»), отработан первый отечественный техпроцесс изготовления интегральных схем с изоляцией окислом («изопланар») – основа производства биполярных ИС последующего поколения, разработан и внедрен базовый технологический процесс изготовления ИС с применением ионного легирования и внедрены плазмохимические процессы в технологии изготовления ИС. На «Микроне» создано производство на основе отечественных «чистых комнат», организован промышленный выпуск интегральных схем для отечественных супер-ЭВМ, разработан универсальный быстродействующий микропроцессорный набор серии 1802 для комплексов ПВО, осуществлены поставки интегральных микросхем для обеспечения космических программ «Марс» и «Венера».
12 апреля 1984 года Указом Президиума Верховного Совета СССР НИИМЭ и завод «Микрон» награждены орденом Трудового Красного Знамени за успешное выполнение заданий по созданию и производству Единой системы ЭВМ.
В 1991 году «Микрон» возглавил Геннадий Яковлевич Красников, пришедший на завод в 1981 году и последовательно занимавший должности инженера, ведущего инженера, начальника модуля, начальника цеха, заместителя генерального директора.
В 1990-е годы «Микрон» продолжает заниматься разработками новых технологий и модернизирует производство. Разработана технология БиКМОП. Предприятие получило право самостоятельного выхода на зарубежные рынки – начата серийная поставка кристаллов интегральных схем для фирмы «Samsung»[3].
13 января 1994 года НИИМЭ и завод «Микрон» были акционированы как единая компания - акционерное общество открытого типа «НИИ молекулярной электроники и завод «Микрон».
В середине 1990-х годов на «НИИМЭ и Микрон» построена новая «чистая комната», начато производство ИС на пластинах кремния диаметром 150 мм с проектными нормами 0,8 мкм. В 1999 г. получен международный сертификат компании Bureau Veritas Quality International на соответствие системы управления качеством согласно нормам ISO 9000.
В мае 1997 года «НИИМЭ и Микрон» вошла в состав холдинга «Концерн «Научный Центр».
В 2000 году на базе Воронежского завода полупроводников создана дочерняя компания ЗАО «ВЗПП-Микрон».
В 2002 году «НИИМЭ и Микрон» вошла в состав ОАО «Ситроникс» (ранее «Концерн «Научный Центр») как головное предприятие бизнес-направления «Ситроникс Микроэлектронные решения» (позднее «Ситроникс Микроэлектроника»).
В 2006 году «НИИМЭ и Микрон» реализует масштабный инвестиционный проект, направленный на модернизацию производства и строительство полного замкнутого производственного цикла: от пластины с чипами до готовой продукции, востребованной рынком. В марте было открыто производство SIM-карт для телекоммуникационной отрасли.
В июле 2006 года «НИИМЭ и Микрон» подписал соглашение с франко-итальянской компанией STMicroelectronics о передаче технологии производства микросхем с топологическим уровнем 180 нм.
В августе 2006 года «НИИМЭ и Микрон» начал производство чип-модулей для контактных смарт-карт, в декабре приступил к освоению полного цикла производства RFID-билетов для транспорта и с 2007 года начал поставки билетов для Московского Метрополитена[4].
12 декабря 2007 года предприятием было объявлено о начале производства микросхем с топологическим размером 180 нанометров[5]. Заявленная проектная мощность предприятия — 18 тыс. 200-мм пластин в год. «Микрон» приобрел и установил 238 единиц оборудования, поставки которого обеспечили более 40 компаний разных стран мира. Инвестиции в проект составили 300 млн долларов США. Государство на начальной стадии проекта вложило в него около 300 млн.рублей в рамках Федеральной целевой программы «Развитие электронной компонентной базы»
В октябре 2009 года госкомпания «Роснано» и АФК «Система» подписали договор о создании на базе производственной площадки и инфраструктуры ОАО «НИИМЭ и Микрон» серийного производства интегральных схем с проектными нормами 90 нм по технологии компании STMicroelectronics на пластинах диаметром 200 мм (ООО «Ситроникс-Нано)[6]. Общий объем финансирования проекта составил 16,5 млрд рублей. Запланированная мощность производства — 3000 пластин в месяц. Сроком начала производства микросхем был заявлен 2010-2011 год.
В 2010 году акционерный капитал компании распределялся следующим образом: 77,08% – ОАО «Ситроникс», 10% – Росимущество, 12,92% – миноритарные акционеры.
Летом 2011 года исследовательский центр ОАО «НИИМЭ и Микрон» был выделен в отдельную дочернюю компанию ОАО «НИИМЭ», при этом головная компания сохранила свою название. Целью выделения стала разработка новых продуктов на технологическом уровне 180-90 нм и развитие технологий уровня 65-45 нм и менее.
В феврале 2012 года запущена линия по производству кристаллов ИС с топологическим уровнем 90 нм, которая позволила нарастить производственную мощность завода в два раза - до 36 тысяч пластин диаметром 200 мм в год[7].
В 2012 года совместно с ФУО «УЭК» разработан[8] отечественный чип для «Универсальной Электронной Карты», производство которого началось в 2013 году[9].
В 2013 году «НИИМЭ и Микрон» запустил производство микросхем для российского биометрического загранпаспорта нового образца[10]. На начало 2015 года поставлено более 6 млн чипов.
В 2013 году «НИИМЭ и Микрон» запустил производство бесконтактных смарт-карт для оплаты проезда «Тройка» для ГУП Московский Метрополитен[11].
В мае 2013 года «НИИМЭ и Микрон» начинает процедуру консолидации производственных активов выкупом 12,5% доли «Роснано» в проектной компании «Ситроникс-Нано»[12].
В сентябре 2013 года «НИИМЭ и Микрон» в результате реорганизации концерна «Ситроникс» был переподчинен холдингу ОАО «РТИ».
В декабре 2013 года ОАО «НИИМЭ и Микрон» завершил разработку собственной технологии создания интегральных схем по топологии 65 нм – были получены первые работающие тестовые кристаллы[13][14]. Этот проект ОАО «НИИМЭ и Микрон» был удостоен премии «CNews AWARDS 2014» в номинации «Российские технологии»[15], а также общероссийской независимой премией «Золотой Чип 2014» в номинации «За вклад в развитие российской электроники»[16]. Массовое производство по топологии 65 нм планировалось открыть в 2014 году[17], однако этого не произошло. На начало 2015 года создание участка для производства кристаллов интегральных схем с данной топологией продолжается.
В мае 2014 г. «Микрон» в ходе проведения дополнительной эмисии консолидировал 100% ООО «Ситроникс-Нано». Ранее предприятию принадлежало в капитале «Ситроникс-Нано» 62,33%, еще 37,67% компания получила от «Роснано». В результате сделки «Роснано» стало акционером ОАО «НИИМЭ и Микрон»[18].
В конце 2014 г. «НИИМЭ и Микрон» выпустил первые полностью отечественные двухъядерные микропроцессоры «Эльбрус-2СМ», разработанные ЗАО «МЦСТ» по технологии 90 нм[19].
В июле 2015 г. ОАО «НИИМЭ и Микрон» заключил контракт с ГУП «Мосгортранс» на поставку бесконтактных проездных билетов для наземного транспорта, став единственным поставщиком чипированных транспортных билетов для всего московского транспортного узла (метрополитен, наземный транспорт, пригородные электрички)[20].
В сентябре 2015 г. ОАО «НИИМЭ и Микрон» и его дочерняя компания АО «НИИМЭ» стали резидентами Особой Экономической Зоны «Зеленоград»[21].
В марте 2016 г. ОАО «НИИМЭ и Микрон» начал поставки в ФГУП "Гознак" RFID-меток собственной разработки и производства для маркировки меховых изделий в рамках проекта Евразийского экономического союза (ЕАЭС) по созданию Единой системы маркировки товаров. RFID-метка позволит вести общий учет маркированных изделий, обеспечит дополнительную защиту от подделки, будет содержать информацию по истории происхождения и перемещения мехового изделия, а также уникальный идентификатор бирки.[22]
В апреле 2016 г. В Лаосской Народно-Демократиченской республике началась выдача биометрических загранпаспортов, изготовленных на базе разработанного и произведенного на "Микроне" микроконтроллера[23]. Это первый международный проект по созданию системы идентификации иностранных граждан на российских технологиях.
В апреле 2016 г. ООО «Ситроникс Смарт Технологии» (входит в Группу «Микрон») начало массовый выпуск банковских карт НСПК «МИР» для мордовского «КС Банка» на микроконтроллере "Микрона"[24]. Это первый выпуск банковских карт НСПК "МИР" на банковском чипе отечественной разработки и производства.
27 апреля 2016г. Совет директоров компании назначил генеральным директором ОАО «НИИМЭ и Микрон» Гульнару Хасьянову. Геннадий Красников занял пост председателя Совета директоров компании.[25]
В настоящее время завод использует линию производства интегральных схем с 6-8 слоями металлизации и проектными нормами от 250 до 65 нм (ФАБ-200) и линией для производства микросхем управления питанием по технологиям биполяр и планар, с 1-2 слоями металлизации и проектными нормами от 1,6-2 мкм (ФАБ-150)[26]. В 2016 году было объявлено о планах освоения в 2018 году технологий 45-28 нм и строительства фабрики под него, для финансирования проекта стоимостью $1,5 млрд предполагалось привлечь государство [27].
На апрель 2016 г. (после проведения допэмиссии) крупнейшими акционерами ОАО «НИИМЭ и Микрон» являются:[28]
Остальные акции распределены между миноритарными акционерами.
В феврале 2016 г. ОАО «РТИ-Микроэлектроника» (100 % дочка ОАО «РТИ») передало ОАО «РОСНАНО» в доверительное управление часть акций ОАО «НИИМЭ и Микрон», в результате чего «РОСНАНО» может распоряжаться пакетом 27,238 %[29]
Список примеров в этом разделе не основывается на авторитетных источниках, посвящённых непосредственно предмету статьи или её раздела. |
Микрон (компания) на Викискладе |
Данная страница на сайте WikiSort.ru содержит текст со страницы сайта "Википедия".
Если Вы хотите её отредактировать, то можете сделать это на странице редактирования в Википедии.
Если сделанные Вами правки не будут кем-нибудь удалены, то через несколько дней они появятся на сайте WikiSort.ru .