Ионно-коллоидное наслаивание — один из методов послойного синтеза на поверхности подложки слоев с использование в качестве реагентов коллоидных частиц из коллоидных растворов и катионов (анионов) из растворов солей. Впервые такие реакции осуществил Айлер Р., который изучил условия последовательной и многократной адсорбции на поверхности силикатного стекла положительно заряженных катионов Al2(OH)5+ и отрицательно заряженных наночастиц из коллоидного раствора SiO2. Наибольшее применение метод ИКН нашел в нанотехнологии при синтезе мультислоев с участием растворов полиэлектролитов в катионной или анионной формах и коллоидных растворов углеродных нанотрубок или графена, а также благородных металлов или оксидов, сульфидов и селенидов ряда металлов, например, CdS, CdSe, ZnS, PbS, TiO2, ZrO2, SiO2 и Fe3O4.
Литература
- Айлер Р. Химия кремнезема. Т. 1 и 2, Пер. с англ. Москва: Мир, 1982, 416 с.
- Multilayer Thin Films. (Eds G. Decher, J.B. Schlenoff). Wiley-VCH, N-Y., 2003.
 |
Это заготовка статьи о нанотехнологиях. Вы можете помочь проекту, дополнив её. |
Данная страница на сайте WikiSort.ru содержит текст со страницы сайта "Википедия".
Если Вы хотите её отредактировать, то можете сделать это на странице редактирования в Википедии.
Если сделанные Вами правки не будут кем-нибудь удалены, то через несколько дней они появятся на сайте WikiSort.ru .